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碳納米管研磨分散設(shè)備是制備高性能碳納米管漿料的核心設(shè)備,專注解決團聚問題。它通過低損傷研磨結(jié)構(gòu)與高剪切力協(xié)同,在保護碳納米管結(jié)構(gòu)的同時,將其均勻分散于溶劑中,確保漿料粒徑均一、穩(wěn)定性強。設(shè)備帶精準(zhǔn)溫控,適配鋰電池、導(dǎo)電涂料等領(lǐng)域,為提升下游產(chǎn)品導(dǎo)電性能奠定基礎(chǔ)。
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碳納米管研磨分散設(shè)備
碳納米管導(dǎo)電漿料及其制備方法碳納米管導(dǎo)電漿料主要由碳納米管、其他導(dǎo)電填料、分散助劑、和溶劑組成,其質(zhì)量百分比組成為:碳納米管:0.5-15%,其他導(dǎo)電物質(zhì)0.1-2%,分散助劑:0.1-5%,其余為溶劑。
該碳納米管導(dǎo)電漿料制備方法為:首先將分散助劑溶解在溶劑中,然后在攪拌條件下加入碳納米管和其他導(dǎo)電填料,待碳納米管和其他導(dǎo)電填料充分浸潤后,采用SID研磨分散機對漿料進行研磨分散,幾小時后即可得到穩(wěn)定分散的碳納米管導(dǎo)電漿料。本發(fā)明方法簡單,不破壞碳納米管結(jié)構(gòu)和導(dǎo)電性,所制得的碳納米管導(dǎo)電漿料具有優(yōu)良的導(dǎo)電性,且性質(zhì)穩(wěn)定均一,靜置3個月后,漿料穩(wěn)定性>90%。
對于碳納米管漿料以及其他鋰電池漿料的研磨分散,普遍存在著2個難以解決的問題: 1、研磨的細(xì)度,傳統(tǒng)的設(shè)備研磨設(shè)備是通過刀頭去磨細(xì),這樣經(jīng)常會破壞碳納米管結(jié)構(gòu)和導(dǎo)電性,使物料變性。而SID研磨分散機,細(xì)化物料更多的是通過物料與物料直接的撞擊來完成研磨細(xì)化的功能,不會破壞物料結(jié)構(gòu)。 2、容易形成二級團聚體,在碳納米管粒徑細(xì)化之后,由于分子之間的作用力,小的物料又會二次團聚,從而影響*終產(chǎn)品的物料粒徑以及分散的效果。SID研磨分散機很好的克服了二級團聚的現(xiàn)象,SID研磨分散機是研磨機和分散機一體化的設(shè)備,在碳納米管漿料粒徑細(xì)化后,瞬間通過分散工作腔,進行分散,避免二次團聚的現(xiàn)象。
GMD2000系列研磨分散設(shè)備是SID公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進行改裝,我們將三級變跟為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料,然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)。
碳納米管研磨分散設(shè)備參數(shù)表:
研磨分散機
流量*
輸出
線速度
功率
入口/出口連接
類型
l/h
rpm
m/s
kW
GMSD2000/4
400
14,000
44
4
DN25/DN15
GMSD2000/5
1000
10,050
11
DN40/DN32
GMSD2000/10
3000
7,500
22
DN80/DN65
GMSD2000/20
8000
4,900
45
GMSD2000/30
20000
2,850
90
DN150/DN125
GMSD2000/50
60000
1,100
110
DN200/DN150
*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調(diào)節(jié)到最大允許量的 10%。